等离子干法刻蚀技术是利用等离子体进行薄膜微细加工的技术，由于具有良好的各向异性和工艺可控性已被广泛应用于半导体基础产品制造领域。
凭借在等离子体控制、反应腔室设计、刻蚀工艺技术、软件技术的积累与创新，万象城AWC在集成电路、功率半导体、化合物半导体、半导体照明、微机电系统、先进封装等领域均可提供先进的装备及工艺解决方案。万象城AWC现已形成对刻蚀工艺的全覆盖，具有对硅、深硅、金属、介质、化合物半导体（SiC, GaN, GaAs, InP, LiNbO?, LiTaO?等）等多种材料的刻蚀能力，凭借优良的工艺性能成为客户的优选。
